基本信息

型号：GeminiSEM 300

厂家：Zeiss

技术参数

发射源：肖特基热场发射电子枪。

加速电压范围：20V～30kV，11V步进连续可调。

探针电流范围：3pA～20nA。

放大倍数：范围11x～2,000,000x，可进行粗调和精调两种调节模式。

高真空二次电子像：0.7nm @15kV，1.2nm @1kV。

样品室内超薄切片机自动切片厚度：15nm-200nm。

切割速度：0.1-1.2mm/秒。

钻石刀行程：1.2mm。

最大可观察视野：1.2mm x 1.2mm（1mm光阑下）。

常规样品尺寸和要求：切面尺寸不大于1100um x 1100um。

探测器：高真空侧位二次电子探测器；镜筒内正光轴环形二次电子探测器；高分辨背散射电子探测器。

应用范围

大体积树脂包埋样品亚细胞结构水平的三维电镜重构