一、基本信息

• 型号：EM ACE600
• 厂家：Leica

二、仪器用途

用于电镜样品的高真空金属溅射喷镀和碳膜沉积，实现样品导电处理及支持膜制备。

三、仪器特性

• 磁控溅射靶 + 碳棒蒸发靶双源配置
• 膜厚监控，精确控制膜厚与沉积速率
• 旋转样品台，沉积均匀、重复性好
• 双源同一流程不破真空连续镀膜
• 触摸屏操作，程序化镀膜

四、技术参数

• 工作方式：高真空金属溅射喷镀、碳膜沉积
• 镀膜源：磁控溅射靶、碳棒蒸发靶
• 本底真空：优于 2×10⁻⁶ mbar
• 样品台：旋转样品台，直径 100 mm
• 膜厚控制：膜厚监控系统

五、应用范围

• 扫描电镜样品导电镀膜
• 高分辨扫描电镜细颗粒金属镀膜
• 透射电镜碳支持膜制备
• 阵列断层、ATUM 连续切片及树脂块面导电处理
• 金属/碳复合膜层镀膜
• 材料、电子、化学等学科样品表面镀膜